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            干涉顯微鏡

            干涉顯微鏡

            采用通過樣品內和樣品外的相干光束產生干涉的方法,把相位差(或光程差)轉換為振幅(光強度)變化的顯微鏡,根據干涉圖形可分辨出樣品中的結構,并可測定樣品中一定區域內的相位差或光程差。由于分開光束的方法不同,有不同類型的干涉顯微鏡,以及用于測定非均勻樣品的積分顯微鏡干涉儀。干涉顯微鏡主要用于測定活的或未固定的相互分散的細胞或組織的厚度或折射率。干涉顯微鏡簡介干涉顯微鏡分為雙光束和多光束兩類,采用通過樣品內和樣品外的相干光束產生干涉的方法,把相位差(或光程差)轉換為振幅(光強度)變化的顯微鏡,根據干涉圖形可分辨出樣品中的結構,并可測定樣品中一定區域內的相位差或光程差,通常測定工件加工光潔度及高度差約為詳情>>

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