制藥行業(yè)對產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)過程的控制要求非常高,因此需要多種高精度測量設(shè)備來確保藥品的安全性、有效性和一致性。以下是一些在制藥行業(yè)中廣泛應(yīng)用的高精度測量設(shè)備:
折光儀:如EMC公司的 MPR E-Scan專業(yè)型在線折光儀,其準(zhǔn)確度可達 ±0.0001nD/±0.05°Brix,測量范圍為 1.33nD 至 1.55nD/0°Brix 至 100°Brix。該折光儀采用耐用的藍寶石棱鏡,具備自動溫度補償功能,且符合 21CFRPart11、GAMP5 和 EUGMPVol.4Annex11 等制藥行業(yè)規(guī)定,可提供安全的數(shù)據(jù)管理、審計追蹤等功能。
密度計:E+H公司的 300 系列模塊化在線密度計是制藥行業(yè)常用的密度測量設(shè)備,能完成在線密度測量。其測量精度高,符合相關(guān)藥典規(guī)定,能為藥品生產(chǎn)過程中的質(zhì)量控制提供準(zhǔn)確的密度數(shù)據(jù)。
微差壓變送器:橫河 EJA120E 微差壓變送器在制藥行業(yè)應(yīng)用廣泛,其基本精度可達 ±0.2%,高精度版本精度能達到 ±0.09%。它采用單晶硅諧振式傳感器技術(shù),具備溫度補償和靜壓補償功能,穩(wěn)定性可達 ±0.3%/1 年,響應(yīng)時間僅 150 毫秒,可快速準(zhǔn)確地測量反應(yīng)釜內(nèi)壓力和管道中流體差壓。
露點儀:美國 EdgeTech 的高精度冷鏡露點儀 DewMaster,露點測量精度達 ±0.2℃,年漂移量<0.1%,可穩(wěn)定測量 - 70℃以下露點溫度。其鏡面采用惰性鍍層,具有抗污染設(shè)計和自清潔功能,可用于凍干工藝中進料氣體的濕度監(jiān)測,確保藥品質(zhì)量。
電子天平:例如幸運天平的十萬分之一微半微量分析天平,精確度達到 0.01 毫克,運用 6.0 的電磁力傳感技術(shù),具有溫度補償、時間溫濕度顯示等功能,符合藥品實驗室的需求,可用于藥品原料的稱重等環(huán)節(jié)。
pH 計:E+H 的 pH 電極與變送器在制藥行業(yè)應(yīng)用較多,其 pH 電極采用玻璃膜或固態(tài)電解質(zhì)技術(shù),部分型號支持 - 50°C 至 130°C 寬溫范圍,變送器精度達 0.01pH,集成 Hart、ProfibusPA、ModbusRTU 等協(xié)議,具備自診斷功能,可實時監(jiān)測電極狀態(tài),適用于制藥過程中的 pH 值測量。
粒度及 Zeta 電位分析儀:如丹東百特的 BeNano90Zeta 納米粒度及 Zeta 電位分析儀,集成了動態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS 和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS,可準(zhǔn)確檢測顆粒的粒徑及粒徑分布、Zeta 電位等參數(shù),符合 ISO22412-2017 和 ISO13099 等標(biāo)準(zhǔn),適用于制藥行業(yè)中納米顆粒、生物大分子等的粒度和 Zeta 電位測量。
