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半導(dǎo)體退火爐硅片退火爐

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更新時間：2025-07-25 09:58:14瀏覽次數(shù)：582次

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青島晨立電子有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品簡介

半導(dǎo)體退火爐硅片退火爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產(chǎn)線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結(jié)、擴(kuò)散等工藝使用。同時也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應(yīng)工藝。

詳細(xì)介紹

半導(dǎo)體退火爐硅片退火爐

一、設(shè)備結(jié)構(gòu):
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圓形6寸片
3、工藝布局:滿足客戶工藝要求

4、自動化程度:工控機(jī)控制系統(tǒng)自動控制工藝流程
5、送取片方式:手動進(jìn)出舟。
6、外形:主機(jī)1臺，主機(jī)架為臥式兩管。
二、主要技術(shù)參數(shù):
1、加熱爐管有效口徑:滿足6英寸硅片?？上蛳录嫒?寸和4寸硅片。
2、工作溫度范圍: 上管:600~1400℃
下管:200~500℃
3、恒溫區(qū)長度及精度:600mm，
上管:800-1400℃.±0.2℃/24h
下管:200-500℃.±0.2℃/24h
4、控制方式:由工控機(jī)統(tǒng)一管理工藝
5、氣路設(shè)置:每管兩路氣體:氮氣100L/min.氬氣100L/min。均采用MFC自動控制流量大小。晨立公司擁有十幾年的專業(yè)研發(fā)制造經(jīng)驗。自成立以來，堅持產(chǎn)品設(shè)計和服務(wù)質(zhì)量共同發(fā)展，積極進(jìn)取，精益求精，不斷提高產(chǎn)品核心競爭力。公司產(chǎn)品擁有自主產(chǎn)權(quán)。已擁有2項實用新型zhuanli，2項發(fā)明zhuanli正在申請中。有5名中、高級職稱的工程師組成專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊，從事熱工行業(yè)近20年之久，有豐富的生產(chǎn)制造經(jīng)驗。