半導體行業超純水設備使用的是微電腦+觸摸屏控制技術，搭配高效的自動化控制系統，有效的保障了設備的穩定性，而且*程度的節約了人力成本和維護成本，水資源的利用率得到了有效的提高，設備運行過程的可靠性高，操作簡單易懂。這款設備相較于其它同類型產品，具有更高的性價比，是值得選擇的半導體行業超純水設備。
制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)
設備特點：
設備可接入國家自來水標準的水為源水，并增加石英砂過濾器、活性炭過濾器、鈉離子軟化器、精密過濾器等四級預處理，另有RO反滲透主機系統和EDI離子交換技術，有效的延長了設備的使用壽命，降低了人工的操作復雜度和維護工作量等。系統水箱處設有液位控制系統、水泵處設有壓力保護裝置并配備在線水質監測控制儀器，讓設備的自動化得到*的提高。設備的選材方面，公司可按照客戶對于水質的要求進行特殊定制，既能保證用水水質達標，同時降低了所需成本。
適用領域：
1.電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗
2.電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
3.顯像管和陰極射線管生產、配料用純水
4.黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
5.液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液
6.晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制
7.集成電路生產中高純水清洗硅片
8.半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路
9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏
10.高品質顯像管、螢光粉生產
11.半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗
12.超純材料和超純化學試劑、超純化工材料
水質用水標準：符合美國ASTM純水水質標準、電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準
